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10T 平行強(qiáng)磁場(chǎng)下Ni-納米Al2O3 復(fù)合共沉積的研究

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關(guān)鍵詞：

強(qiáng)磁場(chǎng) 復(fù)合共沉積鎳-納米氧化鋁鍍層微渦流

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所屬學(xué)科：

分子表征

來源：

2007年第六屆中國功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19，武漢)

簡(jiǎn)介：

將Ni-納米Al2O3復(fù)合電鍍過程移置于10T平行強(qiáng)磁場(chǎng)(B//J)中，探討了有無平行強(qiáng)磁場(chǎng)條件下電流密度對(duì)鍍層形貌及鍍層中納米顆粒含量的影響規(guī)律。結(jié)果表明，在10T平行強(qiáng)磁場(chǎng)下，氧化鋁顆粒在復(fù)合鍍層中呈網(wǎng)格狀分布，并且網(wǎng)格的尺寸隨著電流密度的增加而增加；電流密度顯著影響鍍層中納米氧化鋁的含量，不論是否施加磁場(chǎng)，當(dāng)電流密度為2Adm-2時(shí)鍍層中顆粒含量最高。施加強(qiáng)磁場(chǎng)時(shí)，可使鍍層在低電流密度下獲得較高的納米顆粒含量。

作者：

汪超，鐘云波，賈晶，任忠鳴，任維麗，鄧康

上傳時(shí)間：

2008-06-10 13:17:45

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