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| 用途 |
| 對含雜原子（碳、氫之外的原子）的高分子化合物或合成的高分子金屬化合物，高分子－金屬配合物，有時難以確定分子的化學結(jié)構(gòu)，這時對化合物中化學鍵的表征，可以提供高分子化合物化學結(jié)構(gòu)的信息。 |
| 表征方法及原理 |
?。?）X－射線光電子能譜（XPS）表征高分子化學鍵
當一束單能量軟X射線照射被測高聚物時，入射光子將把能量轉(zhuǎn)移給高聚物分子中的電子，使電子脫離原子的束縛而逃離，將這些逃離電子稱為光電子，測量這些光電子的動能分布情況，可以得到聚合物中高分子化學鍵的類型及變化情況，從而可推斷高分子的化學結(jié)構(gòu)。
?。?）紅外吸收光譜法（FTIR）
測定高分子化合物的吸收光譜，從中尋找各種化學鍵的吸收峰，推算化合物結(jié)構(gòu)。 |
| 所用儀器 |
| X－射線光電子能譜（XPS）
紅外吸收光譜（FTIR）
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| 參考文獻 |
| 1、“現(xiàn)代高分子物理學”（P.670），殷敬華、莫志深主編，科學出版社，2001年 |
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