1.高分子的構型
高分子的構型是指通過化學鍵固定的原子在分子中的空間位置排列情況，這種排列具有穩(wěn)定性，改變構型必須經(jīng)過化學鍵的破壞和重組。同樣數(shù)目的原子以不同的排列方式組成的分子叫做同分異構體，同分異構體分為兩種：一種稱為構造異構體，即同樣單元體由不同鍵接順序方式生成的高分子；另一種被稱為立體同分異構體（簡稱立體異構體），是具有相同原子序列但原子空間排列不同的高分子。立體異構體按其構型分為：
l 旋光異構
l 幾何異構（又稱順反異構）
1.1旋光異構
正四面體的中心原子（如C、Si、P+、N+）上四個取代基或原子如果是不對稱的，這個中心原子叫做手性原子。對應的化合物將出現(xiàn)旋光不同的兩種異構體。這種旋光異構體在高分子中有三種立體結構型式：
l 全同立構：若將主鏈拉直在一平面上，相同的取代基位于平面同一側(cè)；
l 間同（間規(guī)）立構：相同的取代基交替排列在平面的兩側(cè)；
l 無規(guī)立構：取代基無序地排列在平面的兩側(cè)。
1.2幾何異構（順反異構）
當主鏈上存在雙鍵時，形成雙鍵的C原子上的取代基因π鍵電子云的平面結構所致，不能繞雙鍵平面旋轉(zhuǎn)。當組成雙鍵的兩個碳原子同時被兩個不同的原子或基團取代時，由于分子內(nèi)雙鍵上的基團兩側(cè)排列不同而有順式構型和反式構型之分，如聚1，4丁二烯，內(nèi)雙鍵上基團在雙鍵一側(cè)為順式，反之為反式。
2.高分子構型的確定方法
下面是常用的高分子構型確定方法。
l X射線衍射：X射線射入晶體后，被晶體中周期性排列的原子反射所產(chǎn)生的次生X射線相互交叉，出現(xiàn)干涉現(xiàn)象。當光線之間的光程差恰好等于入射光的波長時，干涉最強，既衍射。利用衍射的位置和強度可以得出晶區(qū)中原子的排列次序，并由此推算高分子的構型。X射線衍射方法不需要模型化合物的知識，但局限于測定結晶較好并且立構純度較高的物質(zhì)。
l 電子衍射：類似于X射線衍射。不同之處在于入射的是電子束而不是X光。
l 紅外光譜：特定的基團、化學鍵由于具有獨特而唯一的紅外線吸收頻率，即特征“指紋”，因此可以利用已知構型基團的紅外光譜庫確定未知高分子中的分子構型。
l 核磁共振：利用具有核磁矩的原子核作為磁探針探測分子內(nèi)部的磁場變化。在一定的化學環(huán)境中，成鍵的氫原子（質(zhì)子）、13C、和18F原子磁信號的化學位移（譜圖上譜峰位置的移動）與主鏈的構型有關。可以通過測定相鄰鏈節(jié)構型的異同，進而推算得到高分子中全同立構和間同立構結構的百分數(shù)。
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